国产自偷,欧美日韩国产另类久久,性感美女视频一区二区,免费大片黄在线观看

您好!歡迎訪問科睿設備有限公司網站!
咨詢熱線

13916855175

當前位置:首頁 > 產品中心 > > 鍍膜設備 > 微型磁控濺射鍍膜設備

微型磁控濺射鍍膜設備

簡要描述:微型磁控濺射鍍膜設備
這款來自美國的微型磁控濺射系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門對真空薄膜沉積的性能要求,占用空間小,具有超高的性價比,可以向客戶提供優(yōu)質的服務。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-02-27
  • 訪  問  量:2139

詳細介紹

品牌其他品牌產地類別進口
應用領域電子,綜合

微型磁控濺射鍍膜設備微型磁控濺射
這款來自美國的微型磁控濺射系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門對真空薄膜沉積的性能要求,占用空間小,具有超高的性價比,可以向客戶提供優(yōu)質的服務。
微型磁控濺射鍍膜設備特點
小容量,快速重復工作流程;
活性沉積區(qū)域最大為200nm(8英寸)直徑;
適應多種襯底;
可配備多個濺射源(最多至4個);
連續(xù)沉積模式或聯(lián)合沉積模式;
不同工作氣體控制;
共焦陰極分布;
50mm,75mm, 或100mm磁控濺射源;
內置陰極角傾斜;
陰極擋板;
直流,脈沖,高頻(HG或MF)電源;
襯底,加熱,冷卻,或者RF/DC偏壓;
可添加預抽室。

這款來自美國的微型磁控濺射系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門對真空薄膜沉積的性能要求,占用空間小,具有超高的性價比,可以向客戶提供優(yōu)質的服務。


參考:

磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電,使氬氣發(fā)生電離。

優(yōu)勢特點

常用的制備磁性薄膜的方法是磁控濺射法。氬離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面,將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。通過更換不同材質的靶和控制不同的濺射時間,便可以獲得不同材質和不同厚度的薄膜。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結合力強、鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點。





產品咨詢

留言框

  • 產品:

  • 您的單位:

  • 您的姓名:

  • 聯(lián)系電話:

  • 常用郵箱:

  • 省份:

  • 詳細地址:

  • 補充說明:

  • 驗證碼:

    請輸入計算結果(填寫阿拉伯數(shù)字),如:三加四=7
掃一掃,關注微信
地址:上海市楊浦區(qū)松花江路251弄白玉蘭環(huán)保廣場3號902室 傳真:021-55781190
©2025 科睿設備有限公司 版權所有 All Rights Reserved.  備案號: