隨著微電子技術(shù)和納米技術(shù)的快速發(fā)展,光刻技術(shù)成為了半導體制造和高精度微加工中的核心技術(shù)。尤其是半自動光刻機,憑借其較高的性價比和較為靈活的操作模式,已經(jīng)在許多高精度微加工領(lǐng)域中得到了廣泛應用。一、半自動光刻機的工作原理光刻技術(shù)通過利用光敏材料(光刻膠)在紫外光或激光照射下發(fā)生化學...
當磁控濺射鍍膜機出現(xiàn)故障后應先要向使用者了解故障的現(xiàn)象,之后要親自開機觀察故障,這樣才能更準確、更快、更合理地排除故障。排除故障應先檢測低真空是否正常(機械泵、羅茨泵、管道、下室、蒸發(fā)室),低真空正常后再開主泵,主泵正常后檢測下室真空中是否正常,下室真空正常再開高閥進行高真空檢測檢漏,直至達到真空,極限真空、保真空、恢復真空,如極限真空和保真空正常,而恢復真空和真空不正常則可能主泵有問題。今天給大家列舉一些磁控濺射鍍膜機使用過程中常見的故障和解決方法,希望能幫助大家!一、當正...
一、超聲波風速計概述超聲波風速儀最早于1950年代被開發(fā)出來它的原理是測量超聲波脈沖在兩個探頭之間傳播的時間來計算空氣移動的速度,也就是風速。當空氣移動時,超聲波在兩個探頭之間的時間會變長或變短。超聲波在空氣里就像水里的魚,水的流動方向,順流而下或逆流而上,會影響魚行進的速度。二、超聲波風速計特點1.沒有旋轉(zhuǎn)或移動的部件,易于安裝,結(jié)構(gòu)堅固,幾乎不需要維護。2.采樣頻率高,測量數(shù)據(jù)準確,可以測量3D風速數(shù)據(jù),完整地描述測量點的風速湍流。3.測風范圍廣。
快速化學淬滅系統(tǒng)是多路混合停流裝置,淬滅裝置,快速混合溫度突變等裝置系統(tǒng),產(chǎn)品設計解決您快速動力學應用中的需要,自動濃度依賴性實驗研究以及兩路混合實驗研究,標準停流配置適用所有光學模式:吸收,熒光,圓二色,熒光各向異性光譜等測定。比色池多樣性,可擴展溫度適用范圍,可更換SFM附件,應用于:化學淬滅,光學淬滅以及光學延時,冷凍淬滅,X-射線散射停流,中子色散停流,EPR停流,低溫停流,自動滴定,停流電導,快速混合溫度突變系統(tǒng),微重力實驗研究等。因為有的化學反應某一反應物是過量的...
球磨測厚儀適用于測定涂在平整試板上的濕膜厚度,但在現(xiàn)場或工廠也可以用于只向一個方向彎曲的工件表面,只要底材在兩同心輪間不彎曲變形以至影響儀器的測定即可。當結(jié)果評定時,使用每個標度的線性中心區(qū)段,即使用標度總量程的80%左右的區(qū)段,精度高。主要用于測定涂漆表面濕膜的厚度并可大致估計膜干時的大致厚度,該儀器既可用在實驗室又可用于生產(chǎn)控制。主要用于測量色漆、清漆等各種涂料在施工時涂層厚度的工具。各種涂料施工后,立即將濕膜測厚儀穩(wěn)定垂直地放在平整的工件涂層表面,即可測得涂層厚度。球磨...
深能級瞬態(tài)譜儀是半導體領(lǐng)域研究和檢測半導體雜質(zhì)、缺陷深能級、界面態(tài)等的重要技術(shù)手段!測試功能:電容模式、定電容模式、電流模式、(雙關(guān)聯(lián)模式)、光激發(fā)模式、FET分析、MOS分析、等溫瞬態(tài)譜、Trapprofiling、俘獲截面測量、I/V,I/V(T)、C/V,C/V(T)、TSC/TSCAP、光子誘導瞬態(tài)譜、DLOS。測試根據(jù)半導體P-N結(jié)、金-半接觸結(jié)構(gòu)肖特基結(jié)的瞬態(tài)電容(△C~t)技術(shù)和深能級瞬態(tài)譜的發(fā)射率窗技術(shù)測量出的深能級瞬態(tài)譜,是一種具有很高檢測靈敏度的實驗方法,...
脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕(pulsedlaserablation,PLA),是一種利用激光對物體進行轟擊,然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。不過,脈沖激光沉積的發(fā)展與探究,處處受制。事實上,當時的激光科技還未成熟,可以得到的激光種類有限;輸出的激光既不穩(wěn)定,重復頻率亦太低,使任何實際的膜生成過程均不能付諸實行。因此,PLD在薄膜制作的發(fā)展比其它技術(shù)落后。以分子束外延(MBE)為例,制造出來的薄膜質(zhì)素就優(yōu)良得多。往后十年,由于激光科技的...
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